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光學(xué)晶體超聲波清洗機
發(fā)布時(shí)間:2024-08-21 08:36:27閱讀:(69)

光學(xué)晶體超聲波清洗機在光學(xué)制造領(lǐng)域扮演著(zhù)至關(guān)重要的角色,特別是在對光學(xué)晶體如PPKTP等高精度元件的清洗過(guò)程中。以下從四個(gè)方面詳細介紹光學(xué)晶體超聲波清洗機:工作原理、結構特點(diǎn)、清洗效果及影響因素、以及應用領(lǐng)域。


一、工作原理:


光學(xué)晶體超聲波清洗機的工作原理基于超聲波在液體中的空化作用。超聲波發(fā)生器產(chǎn)生高頻振蕩信號,這些信號通過(guò)換能器轉換成高頻機械振動(dòng),并傳播到清洗溶劑中。在清洗液中,超聲波的振動(dòng)使得液體分子產(chǎn)生劇烈的運動(dòng),形成大量微小的氣泡。這些氣泡在超聲波的負壓區形成并生長(cháng),在正壓區迅速閉合,產(chǎn)生強烈的沖擊波和高溫高壓環(huán)境。這種“空化”效應能夠迅速破壞并剝離光學(xué)晶體表面的污垢和雜質(zhì),從而達到清洗的目的。


二、結構特點(diǎn):


光學(xué)晶體超聲波清洗機通常具備以下結構特點(diǎn):


1、高效超聲波發(fā)生器:采用效率高達95%的超聲波發(fā)生器,功率可調,以適應不同清洗需求。


2、多頻超聲波系統:支持多種頻率段的超聲波系統,如40KHZ、68KHZ等,以滿(mǎn)足不同光學(xué)晶體的清洗要求。


3、多槽清洗工藝:設有多個(gè)清洗槽,包括粗洗、精洗、漂洗等,確保清洗效果。


4、自動(dòng)化控制系統:采用PLC+觸摸屏控制,可根據生產(chǎn)需要監控及調整工藝參數,提高清洗效率和穩定性。


5、環(huán)保設計:采用慢拉脫水、循環(huán)熱風(fēng)干燥方式,替換傳統的溶劑脫水,既安全又環(huán)保。


三、清洗效果及影響因素:


光學(xué)晶體超聲波清洗機的清洗效果受到多種因素的影響,包括超聲波頻率、功率密度、清洗液種類(lèi)、溫度、清洗時(shí)間等。高頻超聲波能更好地破壞污垢層,而高功率密度則能更有效地剝離污垢。此外,清洗液的種類(lèi)和溫度也是關(guān)鍵因素。例如,使用中性清洗劑、DI水、IPA等清洗液,可以在保證清洗效果的同時(shí),減少對光學(xué)晶體的損害。


四、應用領(lǐng)域:


光學(xué)晶體超聲波清洗機廣泛應用于光學(xué)制造領(lǐng)域,特別是針對高精度光學(xué)元件如PPKTP晶體、玻璃鏡片、樹(shù)脂鏡片、顯微鏡、望遠鏡、相機鏡頭等的清洗。在光電行業(yè),它也被用于ITO導電玻璃、LCD基板清洗、液晶片封裝后殘留液晶清洗等。此外,在醫療、儀器儀表、鐘表首飾、化學(xué)生物、機械、電子、半導體、紡織印染等多個(gè)行業(yè),超聲波清洗機也發(fā)揮著(zhù)重要作用。


綜上所述,光學(xué)晶體超聲波清洗機以其高效、精密的清洗效果,在光學(xué)制造及其他多個(gè)行業(yè)中得到了廣泛應用。隨著(zhù)技術(shù)的不斷進(jìn)步,其清洗效果和自動(dòng)化程度將進(jìn)一步提升,為各行業(yè)提供更加優(yōu)質(zhì)的清洗解決方案。